その上、技術の導入、吸収及び、革新を通して、知的財産権があり40-16nmレベルの8インチ半導體ポリッシュウエハーの技術が研究開発されて、日本半導體用ウエハー加工裝置を使い、例えば、3-wayラップ機、キャリアレスファイナル洗浄裝置、AGV搬送システム、天井搬送システムなど、貼り付けから、研磨、剝離までの一貫全自動ポリッシュラインが導入され、Ferrotec（中國）自主的に研究開発した引き上げ爐を使って、さらに、生産能力を向上させました。徐徐に8＂、12＂など大口徑ウエハーの生産能力を備えつつあります。世界でも最高級の大口徑半導體ウエハー産業、研究革新と開発基地の建設を実現し、中國內始めての同時に200ｍｍ半導體ウエハー45萬枚/月、300ｍｍ半導體ウエハー20萬枚/月を提供するメーカーになることを目指しています。
我々のウエハーは抵抗、平坦度、パーティクル、COP、金屬汚染など様々の面で管理されていて、メモリやロジック、パワーデバイス、センサーなど領域で使用されています。直接CMOS、EPI、SOI、MEMSなどの基盤として使用可能であり、中國內半導體IC産業、自動車、コンピュータ、通信、消費電子、工業、醫療、政府、國防だど領域は8＂及び12＂半導體ウエハーに対する需要を埋め合わせます。國內市場ウエハー供給の安全性とIC産業構造の整合性及び安定性を保証し、中國半導體産業の発展に重要な意味があります。
